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光催化氧化设备

光催化氧化设备是在外界可见光的作用下发生催化作用,以半导体及空气为催化剂,以光为能量,将有机物降解为CO2和H2O及其它无毒无害成份。利用人工紫外线光波作为能源,配合经我公司特殊处理后活性最强、反应效率较高的纳米TiO2催化剂,废臭气体经过处理后可达到净化的更理想的效果。

内容介绍 / introduce
1、光催化氧化设备原理
光催化氧化设备是在外界可见光的作用下发生催化作用,以半导体及空气为催化剂,以光为能量,将有机物降解为CO2和H2O及其它无毒无害成份。利用人工紫外线光波作为能源,配合经我公司特殊处理后活性最强、反应效率较高的纳米TiO2催化剂,废臭气体经过处理后可达到净化的更理想的效果。
2、设备工作条件
设备工作是气体环境温度在摄氏60℃以下、湿度在90%以下、无固体粉尘,处理的成分应当只是气体,满足以上三个条件时可以达到不错的净化效果,如湿度及温度过高需作预处理,在废气处理过程中不可有固体粉尘及大量水蒸汽进入设备,这样会直接影响除臭效果,甚至没有效果,光催化氧化停留时间控制在合理范围之内。
3、除臭效果和除臭效率
能够去除各种有机废气如烃类、醛类、酚类、醇类、硫醇类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物以及其它VOC类有机物及无机物。对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果,只要达到一定的反应时间和反应环境配比即可达到完全氧化,可以说氢氧自由基的氧化对象几乎没有选择性,能跟任何现有物质反应。除臭净化效果可达96%以上。
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