光催化氧化设备
光催化氧化设备是在外界可见光的作用下发生催化作用，以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O及其它无毒无害成份。利用人工紫外线光波作为能源，配合经我公司特殊处理后活性最强、反应效率较高的纳米TiO2催化剂，废臭气体经过处理后可达到净化的更理想的效果。
内容介绍
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1、光催化氧化设备原理光催化氧化设备是在外界可见光的作用下发生催化作用，以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将有机物降解为CO2和H2O及其它无毒无害成份。利用人工紫外线光波作为能源，配合经我公司特殊处理后活性最强、反应效率较高的纳米TiO2催化剂，废臭气体经过处理后可达到净化的更理想的效果。
设备工作是气体环境温度在摄氏60℃以下、湿度在90%以下、无固体粉尘，处理的成分应当只是气体，满足以上三个条件时可以达到不错的净化效果，如湿度及温度过高需作预处理，在废气处理过程中不可有固体粉尘及大量水蒸汽进入设备，这样会直接影响除臭效果，甚至没有效果，光催化氧化停留时间控制在合理范围之内。
能够去除各种有机废气如烃类、醛类、酚类、醇类、硫醇类、苯类、氨类、氮氧化物、硫化物以及其它VOC类有机物及无机物。对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果，只要达到一定的反应时间和反应环境配比即可达到完全氧化，可以说氢氧自由基的氧化对象几乎没有选择性，能跟任何现有物质反应。除臭净化效果可达96%以上。
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